和田やよい 展

その先のキレイ

2019年5月13日- 5月25日(日曜休)

11 時 30 分〜19 時 30 分 (最終日 16 時まで)

その先のキレイ

太陽も、月も、人工灯も、全てを受け入れて輝いてほしい

熱をおびた強い光には、おだやかなレシピを

消え入りそうな ともし火には、幻想的な物語を語ってほしい

寄り添うように向き合う時、思わず深呼吸したくなるような

そんな清らかな空気と時間を創ってほしい

清らかな空気は、その先のキレイへと  溶け込んでいく

和田 やよい

和田やよいは工業デザイナーから美術家に転身し、アクリルを素材に立体作品を制作します。作品のテーマは常に「その先のキレイ」であり、和田の原点は1960年代にアメリカで登場し、モノとしての造形と言われ「手仕事性を消去した」ミニマルアートに共通する部分があります。それは形態を単純化する為に工業素材が使われた造形です。但し、和田の精密に切削した「工業素材」としてのプラスチック造形は、ミニマルアートのモノそのものとして示す消耗幾何学形態の構造ではなく、自身の感覚的数値に置き換えた単純形態です。制約の中で贅肉を削ぎ落とし、常に清らかで潔い「キレイ」を創る事を目的にした構造です。作品素材が醸し出す清らかな空気と透き通った世界は、環境や時間で変化する光に誘惑された和田自身の「その先のキレイ」でもあります。

今展では新作を中心に発表致します。皆様のお越しを心よりお待ちしております。

いりや画廊学芸員 園浦眞佐子

 

和田やよい略歴

略 歴 /  女子美術大学 日本大学大学院
1972年 (株)精工舎 デザイン課入社 SEIKOブランド商品デザイン
1981年 (株)富士通ゼネラル デザイン部入社 家電商品デザイン及び商品開発
       大阪デザインセンター選定・グッドデザイン選定
1993年 ~ スタジオプラネット設立 / デザイン・商品開発
       サムスン電子、SONY、富士通、メルシャン、他
1999年 ~ 2009年 横浜市経済局工業技術支援センターアドバイザー
2016年  第14回 KAJIMA彫刻コンクール 奨励賞
2018年  東京ガーデンテラス紀尾井町 個展  いりや画廊総合企画
2019年  個展 いりや画廊
教 育・共同研究発表
1995年 ~ 2015年 女子美術大学 デザイン・工芸学科講師
2000年 ユニバーサルデザイン国際会議出席 アメリカ ロードアイランド州  プロビデンス
2001年 日本色彩学会 発表
2002年 EASYTEX 2002 発表 フィンランド  タンペレ
2003年 include2003 発表  ロイヤル・カレッジ・オブ・アート  イギリス  ロンドン
2005年 日韓国際交流ユニバーサルファッション講師 韓国  ソウル
2006年 ~ 2008年 日本顔学会発表

執 筆
2002年 「ユニバーサルファッション宣言」中央公論新社(共著)
2012年 「オヤノタメ商品・ヒットの法則」集英社(共著)